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納米表面輪廓儀

簡(jiǎn)要描述:IMOS納米表面輪廓儀實(shí)現(xiàn)了精確、定量、iso兼容、非接觸式表面測(cè)量和表征微和納米尺度的表面特征,在短短幾秒鐘內(nèi)可捕獲多達(dá)200萬(wàn)個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)。選擇正確的光學(xué)輪廓儀系統(tǒng)取決于您的應(yīng)用程序的要求,包括速度、精度、垂直范圍、自動(dòng)化和靈活性。

  • 產(chǎn)品型號(hào):IMOS
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2025-07-25
  • 訪  問(wèn)  量:1672
產(chǎn)品目錄

Product catalog

詳細(xì)介紹
品牌其他品牌產(chǎn)地類別進(jìn)口
應(yīng)用領(lǐng)域電子/電池納米模式下的Z軸分辨率30pm微起伏模式(使用原子級(jí)光滑鏡)

納米表面輪廓儀

IMOS納米表面輪廓儀實(shí)現(xiàn)了精確、定量、iso兼容、非接觸式表面測(cè)量和表征微和納米尺度的表面特征,在短短幾秒鐘內(nèi)可捕獲多達(dá)200萬(wàn)個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)。選擇正確的光學(xué)輪廓儀系統(tǒng)取決于您的應(yīng)用程序的要求,包括速度、精度、垂直范圍、自動(dòng)化和靈活性。

IMOS光學(xué)表面輪廓儀在非接觸式光學(xué)表面輪廓方面提供了強(qiáng)大的通用性。有了該系統(tǒng),它可以方便快捷地測(cè)量各種表面類型,包括光滑、粗糙、平坦、傾斜和階梯。所有的測(cè)量都是無(wú)損的,快速的,不需要特殊的樣品準(zhǔn)備。納米表面 輪廓儀系統(tǒng)的核心是部分相干光干涉技術(shù),它提供亞納米精度測(cè)量更廣泛的表面比其他商業(yè)可用技術(shù)。


IMOS 納米表面 輪廓儀提供了不同的應(yīng)用程序的特殊價(jià)值,如平直,粗糙度,波浪形,臺(tái)階高度等等。
IMOS 納米表面 輪廓儀配備了一個(gè)變焦頭,可以填充離散變焦光學(xué)定制的系統(tǒng)。樣本分段配置范圍從*自動(dòng)化到*自動(dòng)化的編碼行程。

IMOS 納米表面 輪廓儀提供高精度測(cè)量,易于使用,快速測(cè)量,有吸引力的價(jià)格,使其成為多功能3D光學(xué)輪廓儀的理想選擇。


納米表 面輪廓儀主要優(yōu)點(diǎn):

- 納米模式下的Z軸分辨率:

~ 30pm微起伏模式(使用原子級(jí)光滑鏡)

~ 0.3um微地貌模式下

- 外形緊湊;

- 快速響應(yīng);

- 抗外部振動(dòng);

- 測(cè)量過(guò)程自動(dòng)化程度高;

- 特殊的用戶友好的界面;

- 高質(zhì)量的圖形界面,以工作與多計(jì)劃三維表示的測(cè)量結(jié)果;

- 廣泛的可能性配置的顯微鏡,以各種形態(tài)-邏輯的測(cè)量表面;

- 能夠工作在兩種模式:微浮雕和納米浮雕;

- *的存儲(chǔ)系統(tǒng)和測(cè)量結(jié)果的系統(tǒng)化。


在硅基板上的Pd薄膜,高度100nm硅晶體表面的階地,高度為0.314nm在硅基板上的Pd薄膜,高度100nm


微起伏模式下的測(cè)量結(jié)果

硅晶體表面的階地,高度為0.314nm  
認(rèn)證口徑,標(biāo)稱高度值為101nm±3%

納米表面輪廓儀納米表面輪廓儀

IMOS納米表面 輪廓儀組成
光電探測(cè)器*
矩形ccd-1392*1040 px

光源 *
LED (λeff = 630 nm)

顯微物鏡*
20x (or 10x, 5x) 2 items
放大率不變

壓電掃描振鏡

位移臺(tái)

1d (Z) range 50 mm
2d (XY) range 75x50 mm

控制器
CCD-相機(jī)抓幀器
位移臺(tái)控制器
設(shè)備控制器

計(jì)算機(jī)

軟件
Software for working with IMOS
System / MS Windows

* – 按客戶需求



微地貌模式下的測(cè)量結(jié)果
認(rèn)證口徑, 厚 40 ± 1,2 μm  
衍射元件, 厚 3,7 μm
納米表面輪廓儀
納米表面輪廓儀
技術(shù)指標(biāo)    
測(cè)量區(qū)域
0,4x0,3 mm2 (for 20X)
像素尺寸
0,3 μm (for 20X)
橫向分辨率
Not worse 1 μm
測(cè)量模式
微地貌模式
微起伏模式
Z軸分辨率
微地貌模式 ~ 0,3 μm
微起伏模式 ~ 30 pm (with atomically smoth mirror)
測(cè)量范圍
微地貌模式 up to 50 mm
微起伏模式 up to 20 μm
測(cè)量速度
微地貌模式 ~ 4 μm/s
微起伏模式 ~ 20 μm/10s


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